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《半导体技术》2020年08期
 
更新日期:2021-02-03   来源:半导体技术   浏览次数:114   在线投稿
 
 

核心提示:目录趋势与展望太阳电池用多晶硅铸锭中非金属夹杂物的研究进展周瑞;王书杰;孙聂枫;陈春梅;邵会民;刘惠生;孙同年;577-585半导体集

 
目录
趋势与展望
太阳电池用多晶硅铸锭中非金属夹杂物的研究进展周瑞;王书杰;孙聂枫;陈春梅;邵会民;刘惠生;孙同年;577-585半导体集成电路
一种基于40nm CMOS工艺的超宽带高速ADC易政;郭轩;郑旭强;周磊;季尔优;吴旦昱;586-591
一种高性能X波段GaAs开关滤波器芯片王胜福;世娟;592-596半导体器件
位错类型对GaN基蓝光LED光效衰减效应的影响朱学亮;597-601+616
InP基HBT小信号模型参数直接提取方法徐坤;张金灿;王金婵;刘敏;刘博;602-608+644
双栅负电容隧穿场效应晶体管的仿真马师帅;朱慧珑;黄伟兴;609-616半导体材料
LEC法生长高质量6英寸InP单晶邵会民;孙聂枫;张晓丹;王书杰;刘惠生;孙同年;康永;617-622+651
6英寸SiC衬底上MOVPE生长GaN HEMT材料尹甲运;张志荣;李佳;房玉龙;郭艳敏;高楠;冯志红;623-626+637
利用三路脉冲MOCVD技术抑制非极性a面AlGaN外延层缺陷杨洪权;赵见国;胡平;何佳琦;范艾杰;627-631半导体制造技术
原位沉积温度对电子束蒸镀Ta2O5薄膜性能的影响于龙宇;王伟;刘孟杰;曹振勇;632-637
有蜡贴片工艺对4英寸SiC抛光片几何参数的影响高飞;李晖;张弛;638-644
高可靠抗辐射CMOS复合栅工艺陈晓宇;葛洪磊;赵桂茹;孙有民;薛智民;645-651半导体检测与设备
化学法测定InxGa1-xN外延层中的In含量王雪蓉;刘运传;王倩倩;周燕萍;姚凯;马衍东;652-656



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